專注于化學(xué)沉積,電鍍和銅面處理技術(shù)創(chuàng)新
產(chǎn)品描述
▍產(chǎn)品概述:
● 褪膜速度快,便于操作
● 不含堿金屬氫氧化物
● SkyStrip 720不含四甲基氫氧化銨
● SkyStrip 726適合軟板褪膜,不影響補(bǔ)強(qiáng)片附著力
▍產(chǎn)品特性:
膜屑尺寸:500~700μm
破膜點(diǎn) :26s
去膜時(shí)間:33s
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專注于化學(xué)沉積,電鍍和銅面處理技術(shù)創(chuàng)新
產(chǎn)品描述
▍產(chǎn)品概述:
● 褪膜速度快,便于操作
● 不含堿金屬氫氧化物
● SkyStrip 720不含四甲基氫氧化銨
● SkyStrip 726適合軟板褪膜,不影響補(bǔ)強(qiáng)片附著力
▍產(chǎn)品特性:
膜屑尺寸:500~700μm
破膜點(diǎn) :26s
去膜時(shí)間:33s
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